頂立科技臥式真空裂解爐
該臥式真空裂解爐主要用陶瓷纖維或制品的真空裂解、燒成等工藝。技術(shù)特征采用電阻加熱，設(shè)置溫度補償或多區(qū)控溫，溫度均勻性好；
[湖南省長沙]廠家地址 | 企業(yè)名片 | 更多產(chǎn)品
頂立科技立式真空碳化爐
該類型設(shè)備可設(shè)計成采用石墨作為加熱體的有碳加熱環(huán)境，最高溫度可達1600℃以上，用于炭/炭復合材料、陶瓷基復合材料、碳纖維保
頂立科技 臥式真空碳化爐
該真空碳化爐主要用于炭/炭復合材料、碳纖維保溫材料、高導熱石墨膜的高溫碳化處理。技術(shù)特征采用多溫區(qū)獨立控溫，溫度均勻性好
頂立科技立式化學氣相沉積爐（碳化硅）
該立式化學氣相沉積爐可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。技術(shù)特征采用先進的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量
頂立科技臥式化學氣相沉積爐（碳化硅）
該化學氣相沉積爐（碳化硅）可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。技術(shù)特征可根據(jù)客戶需求設(shè)計尺寸，能滿足超大
頂立科技立式化學氣相沉積爐（沉積炭）
立式化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。技術(shù)特征根據(jù)爐膛尺寸與結(jié)
頂立科技臥式化學氣相沉積爐（沉積炭）
化學氣相沉積爐（沉積炭）可用于以碳氫氣體（如C3H8等）為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理。技術(shù)特征可根據(jù)客戶需求設(shè)計尺
頂立科技智能制造真空熱處理數(shù)字化生產(chǎn)線
真空熱處理智能生產(chǎn)線涵蓋了不同種類零件的所有熱處理內(nèi)容，依據(jù)使用方熱處理零件最終質(zhì)量要求ACME可以進行非標設(shè)計，生產(chǎn)線中的
頂立科技真空熱壓爐
真空熱壓爐廣泛應用于各類復合材料、各類高導熱材料、SiC/ Si3N4/B4C陶瓷類材料、銅基粉體材料、鐵基粉體材料、鐵銅基粉體材料等
頂立科技真空壓力擴散焊爐
頂立真空爐VDP標準型釬焊及擴散焊爐主要用于航空、航天、船舶等各類發(fā)動機葉片、隼頭、導彈引信等部件的擴散焊接工藝，擴散焊焊
頂立科技真空時效爐
該真空時效爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼等材料的真空氣體淬火后、固溶處理后的真空回火及有色金屬的再結(jié)晶退火
頂立科技高真空回火爐
該高真空回火爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼、鈦合金等材料真空淬火后、固溶處理后的真空回火及有色金屬的再結(jié)晶
頂立科技立式底裝料真空退火爐
該立式底裝料真空退火爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼、磁性材料、不銹鋼、有色金屬等材料的光亮退火。特別適用于
頂立科技臥式單室真空退火爐
該臥式單室真空退火爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼、磁性材料、不銹鋼、有色金屬等材料的光亮退火等。技術(shù)特征爐
頂立科技臥式真空水淬爐
該臥式真空水淬爐主要用于鈦合金固溶處理，如TC4、TC16、TC18等材料，鈹青銅固溶處理；鎳基、鈷基高彈性合金3J1、3J21、3J53等固
頂立科技立式真空水淬爐
該立式真空水淬爐主要用于航空航天行業(yè)中的鈦合金固溶處理，如TC4、TC16等材料，航空儀表彈性元件中的鈹青銅固溶處理、航天傳感
頂立科技熱等靜壓與高壓氣淬復合真空爐
主要用于各類金屬材料、銅基、鐵基粉體材料、耐磨材料、陶瓷類材料熱等靜壓（HIP）及加熱致密后的快速冷卻（GQ）氣體淬火。技術(shù)
頂立科技臥式雙室真空高壓氣淬爐
該臥式雙室真空高壓氣淬爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼等材料的真空氣體淬火，加熱室與淬火室分開結(jié)構(gòu)，節(jié)能特點
頂立科技臥式單室真空高壓氣淬爐
該臥式單室真空高壓氣淬爐主要用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼等材料的真空氣體淬火等，對裝爐工件形狀無特殊要求，氣淬
頂立科技立式底裝料真空氣淬爐
該立式底裝料真空氣淬爐可用于工具鋼、模具鋼、高速鋼、超高強度鋼等材料的立式氣體淬火，特別適用于對長桿形零件、軸類、板類零
會員中心
